一、行業簡介
        半導體、集（jí）成（chéng）電路芯片及封裝（zhuāng）、液晶顯示、高精（jīng）度線路板、光電器件、各種電子（zǐ）器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的（de）純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄（zhǎi），對水質的要求也越（yuè）高。目前我國電子工業部把電子（zǐ）級水質技術分為五個行業等級（jí），分別為（wéi）18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材（cái）、造漆、蓄電池、化（huà）驗、生物、製藥、石油、化（huà）工、鋼鐵、玻（bō）璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集（jí）成電路、液（yè）晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件（jiàn）、電（diàn）容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供（gòng）水係統。
2、預處（chù）理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體（tǐ）以及部分有機物，保證產水符合反滲透係（xì）統的進水（shuǐ）水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中溶解性（xìng）鹽類（lèi）物質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進（jìn）行進一（yī）步脫除溶解性的小（xiǎo）分子鹽類物質，產（chǎn）水（shuǐ）達（dá）到電阻率達到15MΩ.cm以上（shàng）。
5、終端（duān）供水係統主要是用來將合格水輸送至用水點（diǎn），輸送過程中對EDI產生進（jìn）行最後的離子交（jiāo）換脫（tuō）鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設（shè）計（jì），占地（dì）麵積小，操作維護方便，安裝方便快捷（jié），整體美觀（guān）。
2、整套係統（tǒng）實現全自動化運行，並且手動與自動自由（yóu）切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學（xué）藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係統回收率在（zài）75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收（shōu）率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級（jí）反（fǎn）滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半（bàn）導體工業純（chún）水（shuǐ）指標。
3、單支（zhī）膜（mó）脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。